High-power CO2 optics

High-power CO2 optics

OFHC copper, silicon and silicon carbide. Customised optical mirrors.

High Power CO2 Mirror made of copper, silicon and silicon carbide

Pleiger Laseroptik manufactures your customised optics for use with high-power CO2 lasers. It does not matter whether you require a customised product in a special size or shape or whether it is a series production.

Why CO2 laser optics from Pleiger?

High-quality substrates

  • OFHC copper, silicon and silicon carbide
  • Lowest absorption values
  • Possible with internal water cooling

Professional processing

  • Customised work from our own production
  • Worldwide delivery
  • Small and large quantities
High-power CO2 optics

CO2 Zero Phase Shift High Reflector

Zero phase shift mirrors are used to maintain the polarisation state of the incident beam (usually a circularly polarised beam). Our optics and coatings are optimised for high power applications.

  • OFHC copper and silicon substrates
  • Coating: ZPS / MMR

Specifications:

  • Reflection AOI 45° / s-pole / lambda 10.6 µm: 99.9 %
  • Reflection AOI 45° / p-pole / lambda 10.6 µm: 99.7 %
  • Reflection AOI 45° / r-pole / lambda 0.632 µm: 45 %
  • Phase shift AOI 45° / Lambda 10.6 µm: 0° +/- 2°
High-power CO2 optics

CO2 Total Reflector Cavity Mirror

CO2 laser mirrors from PLEIGER Laseroptik enable the reliable use of industrial CO2 lasers. Our CO2 laser mirrors are responsible for the stability of the laser beam and thus enable precise and efficient machining processes. Our mirrors are optimised for use in CO2 resonators with high laser power and contact with the gas discharge.

  • OFHC copper and silicon substrates
  • Coating: MMR

 

 

Specifications

  • Reflection AOI 0° / r-pole / lambda 10.6 µm: 99.9 %
  • Reflection AOI 45° / s-pole / lambda 10.6 µm: 99.9 %
  • Reflection AOI 45° / p-pole / lambda 10.6 µm: 99.7 %
  • Reflection AOI 45° / r-pole / lambda 0.632 µm: 45 %
High-power CO2 optics

Scanning Mirror

High-speed mirror galvanometers are essential for industrial laser marking systems ranging from laser marking of surfaces and parts to batch coding of semiconductor wafers.

  • Silicon and silicon carbide substrates
  • Coating: MMR and DEMMR

 

Specifications: MMR coating

  • Reflection AOI 45° / s-pole / lambda 10.6 µm: 99.9 %
  • Reflection AOI 45° / p-pole / lambda 10.6 µm: 99.7 %
  • Reflection AOI 45° / r-pole / lambda 0.632 µm: 45 %

 

Specifications: DEMMR coating

  • Reflection AOI 45° / s-pole / lambda 10.6 µm: 99.8 %
  • Reflection AOI 45° / p-pole / lambda 10.6 µm: 99.6 %
  • Reflection AOI 45° / r-pole / lambda 0.632 µm: 75 %
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