High-Power CO2 Optiken

OFHC-Kupfer, Silizium und Siliziumkarbid. Optische Spiegel nach Maß gefertigt.

High Power CO2 Spiegel aus Kupfer, Silizium und Siliziumkarbid

Pleiger Laseroptik fertigt Ihre Optiken für den Einsatz mit High-Power CO2-Lasern nach Maß. Hierbei spielt es keine Rolle, ob Sie eine Spezialanfertigung in einer besonderen Größe oder Form benötigen oder ob es sich um eine Serienfertigung handelt.

Warum CO2 Laseroptiken von Pleiger?

Hochwertige Substrate

OFHC Kupfer, Silizium und Siliziumkarbid
Niedrigste Absorptionswerte
Mit interner Wasserkühlung möglich

Professionelle Abwicklung

Maßarbeit aus eigener Fertigung
Weltweite Lieferung
Kleine und große Stückzahlen

CO2 Zero Phase Shift High Reflector

Zero Phase Shift Spiegel werden verwendet, um den Polarisationszustand des einfallenden Strahls (in der Regel ein zirkular polarisierter Strahl) beizubehalten. Unsere Optiken und Beschichtungen sind für Anwendungen mit hoher Leistung optimiert.

OFHC-Kupfer und Silizium Substrate
Beschichtung: ZPS / MMR

Spezifikationen:

Reflexion AOI 45° / s-pol / Lambda 10,6 µm: 99,9 %
Reflexion AOI 45° / p-pol / Lambda 10,6 µm: 99,7 %
Reflexion AOI 45° / r-pol / Lambda 0,632 µm: 45 %
Phasenschiebung AOI 45° / Lambda 10,6 µm: 0° +/- 2°

Jetzt +49 2324 398-401 anrufen

CO2 Total Reflector Cavity Mirror

CO2-Laserspiegel von PLEIGER Laseroptik ermöglichen den zuverlässigen Einsatz von industriellen CO2-Lasern. Unsere CO2-Laserspiegel sind für die Stabilität des Laserstrahls verantwortlich und ermöglichen damit präzise und effiziente Bearbeitungsprozesse. Unsere Spiegel sind für den Einsatz in CO2-Resonatoren mit hoher Laserleistung und dem Kontakt mit der Gasentladung optimiert.

OFHC-Kupfer und Silizium Substrate
Beschichtung: MMR

Spezifikationen

Reflexion AOI 0° / r-pol / Lambda 10,6 µm: 99,9 %
Reflexion AOI 45° / s-pol / Lambda 10,6 µm: 99,9 %
Reflexion AOI 45° / p-pol / Lambda 10,6 µm: 99,7 %
Reflexion AOI 45° / r-pol / Lambda 0,632 µm: 45 %

Scanning Mirror

Hochgeschwindigkeits-Spiegelgalvanometer sind unverzichtbar für industrielle Lasermarkierungssysteme, die vom Laserbeschriften von Oberflächen und Teilen bis hin zur Chargencodierung von Halbleiterwafern reichen.

Silizium und Siliziumkarbid Substrate
Beschichtung: MMR und DEMMR

Spezifikationen: MMR Beschichtung

Reflexion AOI 45° / s-pol / Lambda 10,6 µm: 99,9 %
Reflexion AOI 45° / p-pol / Lambda 10,6 µm: 99,7 %
Reflexion AOI 45° / r-pol / Lambda 0,632 µm: 45 %

Spezifikationen: DEMMR Beschichtung

Reflexion AOI 45° / s-pol / Lambda 10,6 µm: 99,8 %
Reflexion AOI 45° / p-pol / Lambda 10,6 µm: 99,6 %
Reflexion AOI 45° / r-pol / Lambda 0,632 µm: 75 %

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Haben Sie noch Fragen? Sollten Sie noch Fragen haben, wenden Sie sich gerne an unser Expertenteam. Wir beraten Sie gerne und können auch bei technischen und komplexen Fragen Hilfestellung leisten.

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